第619章 下一代光源的抉择（2/2）

“山总，这可是你说的。”梁梦松笑了起来：“制程推进很花钱的。”

“花钱怕什么？只要在关键制程上领先一步，一笔单子就赚回来了。晶圆厂是个赢家通吃的行业，谁掌握了先进制程，谁就掌握了高端芯片代工的定价权。”

梁梦松点头，他当然清楚，今后的制程推进会越来越难，投入需求也会越来越大——当然回报也肯定足够丰厚。

但远芯还有个问题。

“山总，那要是遇到光刻机禁售……怎么办？”

说到光刻机，苏远山马上便沉默了下来。

euv已经如历史轨迹一样成立——asml这个荷兰小公司，在签下了几乎是卖身契之后终于得以进入了euv联盟。

可以想象，在接下来的数年内，asml将会迅速从技术上同时对尼康佳能进行追赶，并如历史轨迹一般完成euv的技术构想。

但历史轨迹又不一样的是，asml完成对尼康佳能超越的关键团队，目前在苏远山手上。

“只要国产光刻机仍然在追赶，禁售就不会发生。”苏远山抿着嘴，沉默地望向远处的一栋大楼——那里便是林本坚和赵凯东的联合团队所在的实验室。

“而且我们一直都与多方的光刻机企业有技术支持和合作，这种交错的关系之下，除非德远受到了明确的针对，否则不会发生。”

梁梦松不擅长这些“大棋”，他只需要知道，苏远山说不会，那他就不用担心了。

而且德远目前也确实是尼康的友好客户，在去年wa协定签署后，国内半导体产业都风声鹤唳了许久，尼康为此还特意安排了工期……后面证明，霓国方面除了加强了检查之外，并没有干涉德远的订单。

“总之走着看，我们技术越有优势，就越有讨价还价的本钱。”说着苏远山站起身，朝着前方的实验室走去。

……

“林叔，赵叔。”

苏远山见两人同时站在门口，连忙上前握手，梁梦松也上前打了招呼。

见到跟在苏远山身后的梁梦松，林本坚倒没什么，赵凯东则是微怔了一下——此时张汝金不在，按照规矩，负责接待陪同苏远山的显然应该是德远的二把手来……

按照职位算，梁梦松只能排到德远的第五。

这架势，看来苏远山是真铁了心的要全力推制程突破了。

在接待室落座后，苏远山简单问了一下目前的进度——在光源领域，因为林本坚的加入，赵凯东团队进展得很快，他们即将完成193nm的准分子激光光源技术。

虽然比起国外同行落后了差不多一年多，但好歹算是追上了。而且就现有的技术和理论来看，193nm将会成为很长一段时间内都无法突破的光源。否则灯塔国那边也不会成立euv联盟，找寻新的出路了。

当然，对于如何跨越193nm，除了euv之外，也有其他的方案。譬如尼康和svg就在准备攻克157nm的hef2激光，以及电子束投射(epl)，离子投射(ipl)、甚至x光等等……

总之，就是解决的办法一箩筐，放眼望去全是路。

但具体哪一条是真正的正道，谁也不知道。

嗯，只有苏远山一个人知道。

因为这些方案，都败给了眼前这个乐呵呵的老爷子。

“林叔，赵叔，193nm之后你们的想法是什么？”坐到沙发上，苏远山端起茶杯抿了一口。

赵凯东和林本坚对视了一眼，随后笑着道：“193nm看样子都要停留很久，你这么着急？”

“我本来是不着急的。”苏远山很坦白：“主要是老美那边搞euv，搞得我有点心慌。”

赵凯东便笑着摇了摇头：“虽然说光源要比光刻机领先很多，但193nm的光源现在都尚未用在光刻机上，你心慌也没用。”

“至于说下一代光源，其实我和老林并不十分看好157nm，因为hef2激光可以说要完全推翻现有的光路系统，非但物镜要重新搞，光刻胶也要重新研制……最主要的是，波长步进提升不大，且投入产出比太高了。”

“euv，听起来很不错，有点下一代光源的意思。但你看euv联盟那架势……就不是我们这个小作坊能够完成的。”

苏远山便笑道：“有您二位在，咱们这实验室可不是小作坊。”

“呵呵，不管是不是，但设计师不是有句话吗？摸着石头过河……既然前面有人趟路了，那我们也干脆摸着石头过河就行了。”赵凯东笑道：“intel不是拉了那么多企业吗？你也可以拉一个嘛。”

苏远山：“……”

他算是听明白了，赵凯东的意思是，让他也搞个euv联盟。

苏远山倒是想搞，可现在要是搞的话，那就不是远芯主导，而是所有人给霓国人打工。

于是他便望向林本坚。

“林叔？你有什么妙招没有？”

（注：虽然有点枯燥，但……总归还是得写。。。）