第180章 ASML又来了（1/2）

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另一个时空，光刻机的发展经过了一个漫长的过程，1960年代的接触式光刻机、接近式光刻机，到1970年代的投影式光刻机，1980年代的步进式光刻机，到步进式扫描光刻机，到浸入式光刻机和8102年的euv光刻机，设备能不断提高，推动集成电路按照摩尔定律往前发展。

曝光光源方面，从1960年代初到1980年代中期，汞灯已用于光刻，其光谱线分别为436nāo)心，鹿岛智树他们只负责生产运维就行！

“余总，其实对于asml的设备，我不熟悉，以前也未曾使用过。所以我想说的不多。不过我想强调一点的是，设备制造标准的统一，具体来说就是和目前香积电已经存在的3微米光刻机的协调配合，甚至与曰本其他厂商生产的刻蚀机、离子注入机等设备配合，都要考虑在内！”

鹿岛智树给大家进一步解释……

香积电的工艺实验室和厂里生产线的批量生产的设备虽然属于同一机种，要将实验室的工艺导入到生产线，对生产线进行升级，想要得到最终理想的目标工艺结果，比如说1.2微米的工艺制程，就必须不断的对生产线的设备或者工艺做进一步调整，最后找到一个微妙的合适的某一点，或者无限接近这个点，最终让所有的设备和工艺处于最佳的状态，良率大幅度提高，确保在80以上……

如果这个点找不出来，就算是可以调试出1.2微米的制程来，但是良率会上不去……甚至有可能良率为零的可能！

要知道，即使是同一家生产的同一个规格型号的设备，也是存在这微小的能和状态差异，这种差异称之为“机差”。

“机差”，是每一个半导体制造设备厂家在生产同一型号的设备时，因不可控因素的存在而导致的设备差异。

随着半导体设备精密化程度的不断提高，机差的问题也益显著。

正是因为机差等各种因素影响，一般来说，新建设的生产线试生产时，初始良率几乎都是零。而将良率尽快提高到接近80%，并且长期维持接近80%的成品率的技术，才是工厂批量生产的最终目标和要求！

“所以，余总，我建议我们在设备采购的合同上一定要特备要求，各设备厂家在设备安装调试期间，必须选派技术熟练的技术人员到场指导、或者监督，确保每一台设备的正确安装，乃至下一步的设备联试的顺利进行，最大程度的缩短调试周期！然后开始产生效益！哪怕是我们为此付出额外的设备安装指导的技术工人费用，都是非常值得的！”

“说的好！”听到鹿岛智树真知灼见，余子贤不仅为自己能够成功聘请鹿岛智树庆幸！以为下一步香积电的生产线升级庆幸！

想必，有这位专家监督，香积电的生产线升级改造会少走许多弯路，顺利许多！

“鹿岛叔，你还有什么补充的吗？”

“暂时没有了！”

“那其他人还有没有补充的？”

“没有……”

“没有！”